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鍍膜氟化物材料

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氟化物材料

化學式

規格/mm

熔點/℃

蒸發源

折射率

透明波段

用途

Formula

Preduct 

Size

melting 

point

Evaporatio 

source

Refractive index 

at550nm

The transparent 

band

Application

 MgF2

1-2/1-3等

1266

B(W,Ta,Mo)

1.38

110-10000nm

增透膜,多層膜,濾光片,分光器

LiF

1-6

842

B

1.3943

110-6600nm

紫外窗口,棱鏡,透鏡,X-射線分光

CeF3

 1-3等

1460

E,B(W)

1.63

300-500nm

保護膜

CaF2

 1-3等

1360

B(W,Ta,Mo)

1.23-1.46

150-12000nm

增透膜,偏光鏡

YbF3

 1-3等

1157

E

1.52

220-12000nm

增透膜,熱反射膜/介質膜,偏光鏡,分束鏡,激光鍍膜

YF3

 1-3/3-5等

1387


1.59

220-14000nm

增透膜,偏光鏡,分束鏡,
激光鍍膜

Na3AlF6

 1-8等

1000

B(Ta,Mo)

1.32-1.35

200-14000nm

窄帶濾光片,紫外膜

AlF3

1-4等

900

B

1.38

200-20000nm

增透膜

LaF3

1-3等

1490

E,B(W,Mo)

1.55

200-12000nm

增透膜,介質鏡,二向色濾光片
偏光鏡

NdF3

1-4等

1410

B(Ta,Mo)

1.61

220-6000nm

增透膜,偏光鏡,分束鏡,
激光鍍膜


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